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连续数日的飘飘细雨，令整个申城仿佛都蒙上了一层薄雾。
是较为难受的回潮天。
当然，这也是相对的。
像是方总就感受不到这天气带来的难受与黏腻。
眨眼便已经是3月下旬。
在周一的下午，上完了今日课程的方总走进了前沿办公室，背着双手站在窗前看着外面淅淅沥沥的雨雾。
颇有种闲情逸致的味道。
“……”
好片刻后，温叶才凑上来打破这种安静：“方总，您要不现在听听汇报？”
没错，方年之所以会走进前沿办公室的门，是温叶喊来的。
方年轻轻点头。
温叶清了清嗓子：“是这样的，白泽那边已经完成了服务器CPU的流片验证工作，第一款测试级的服务器CPU可用。”
闻言，方年回头看了眼温叶，走回了工位：“仔细说说，我记得这个月应该有不少项目完工。”
见状，温叶翻开文件夹，有条不紊的汇报起来。
“这款服务器CPU采用了CB12指令架构，包含最新的Ex64指令集，在‘未竟’架构的基础上借鉴了部分‘初’架构，合理的设计了8个核心，采用中芯40纳米制程流片而成；
仅流片了一次，便成功通过实际验证；
不过各方面性能并不是很亮眼，但根据相关测试，大CPU项目组认为这样一款CPU，可以提供足够丰富的实测数据……”
听温叶停顿下来，方年晃晃手：“都说完吧。”
温叶轻轻点头，继续往下说：“上周五，贵阳数据中心一期土建工程通过验收，已经可以开始服务器机组的安装调试工作。”
“……”
“上周四神龙211流片通过，神龙511流片通过，性能不达标，在调整后将进行第二次流片……”
“……”
“晶圆测试线月初正式启动了试生产，光刻机的良率、稳定性等十分不理想，需要进行一定的调整；
据汇报，有望在下月进行65纳米制程试生产。”
似乎知道方年会有疑惑，说到这里，温叶特地补充了几句：“DUV浸入式光刻实际上一直可以支持到7纳米制程的光刻；
根据晶圆试验线的负责教授解释：
传统国际半导体技术蓝图定义光刻制程技术节点的是最小金属间距。
又根据一个瑞利公式：CD=K1×（λ/NA），降低波长λ，提高镜头的数值孔径NA，降低综合因素K1，即可不断演进光刻制程。
DUV激光光源从90年代末至今就一直是停滞在193nm波长；
不过有人提出了新的方案，一个工程上很简单的办法，在晶圆光刻胶上加1mm厚的水，水可以把193nm的光波长折射成134nm，再做到半周期65nm；
总之……
